淺談小蘇打脫硫

干法脫硫工藝是采用自帶分級系統(tǒng)的粉碎機與輸送風機組合為成套研磨噴粉裝置，粉碎后的碳酸氫鈉細粉呈層狀或多孔狀結(jié)構(gòu),顆粒大小均勻,具有良好的分散性,然后以固態(tài)超微粉未通過多個噴嘴直接噴射到爐瞠或反應(yīng)塔內(nèi)。能有效去除尾氣中95%以上的SO2、HCI的去除率甚至可達99%

優(yōu)勢 :

采用碳酸氫鈉(小蘇打)千法脫硫不僅能達到環(huán)保方面苛刻的要求，而且與其它煙氣凈化方式相比，能有效降低投資和運營成本!應(yīng)用 :

該工藝已廣泛的應(yīng)用于煙氣于法凈化領(lǐng)域，如煤電廠、垃圾或替代燃料焚燒廠，及玻璃、生物燃燒、水泥、治金等工業(yè)廢氣中，含有酸性物質(zhì)的氣體，如SO2，HCI等。

脫硫原理

碳酸氫鈉(小蘇打，NaHC03)可以用作煙氣脫疏的吸附劑。它通過化學(xué)吸附去除煙氣中的酸性污染物，同時，它還可通過物理吸附去除一些無機和有機微量物質(zhì)。此工藝將碳酸氫細粉直接噴入140-250C高溫煙氣。在高溫下碳酸氫鈉分解生成碳酸Na2C03、H20和C02.新產(chǎn)生的碳酸鈉Na2C03在生成瞬間有高度的反應(yīng)活性，可自發(fā)地與煙氣中的酸性污染物進行下列反應(yīng):

2NaHCO3 -Na2CO3+H20+CO21

Na2CO3+2S02+H20-* CO21+2NaHSO3

Na2CO3+SO2+H20 - H20+CO21+Na2sO3

研磨系統(tǒng) 

碳酸氫鈉原料通常是研磨系統(tǒng)jp9 0值約為150-200微米。如要達到較高的反應(yīng)活性，吸附劑必須有較大的比表面積，研磨至一定細度d90:20um或根據(jù)需要調(diào)整的合話粒徑 ) 比,要去除S02碳酸氣細度須達到d90< 20 m，而去除HC只要求d90 < 35 m.為了在長期操作中獲得所需的碳酸氫鈉細度，通常采用自帶分級系統(tǒng)的粉碎機與輸送風機組合為成套研磨噴粉裝置，粉碎后的碳酸氫鈉細粉呈層狀或多孔狀結(jié)構(gòu),顆粒大小均勻,具有良好的分散性,然后以固態(tài)超微粉未通過多個噴嘴直接噴射到爐瞠或反應(yīng)塔內(nèi)。

現(xiàn)場直噴負壓流程形式

該工藝流程適應(yīng)于粉碎機近距離安裝于脫硫現(xiàn)場，既磨即噴，碳酸氫鈉不板結(jié)，有效效穩(wěn)定。粉碎區(qū)呈負壓運行狀態(tài)，粉塵不外溢、生產(chǎn)環(huán)境

優(yōu)良。

現(xiàn)場直噴正壓流程形式

該工藝流程同樣適應(yīng)于粉碎機近距離安裝于脫硫現(xiàn)場，物料不經(jīng)過輸送風機，不存在粘結(jié)現(xiàn)象，無需對風機進行清理

獨立粉碎單元近端供料形式(3D)

此流程將粉碎機設(shè)計為沖立的系統(tǒng)，合格物料先經(jīng)收集器收集再通過風機按需定量輸關(guān)到用料終端，該工藝在用料終端500米半徑范圍內(nèi)將安裝粉碎裝置，各系統(tǒng)自成一體，獨立工作互不干擾，既具有現(xiàn)場直噴經(jīng)濟便捷性又有遠端供料的機動靈活性

遠端粉磨站轉(zhuǎn)運形式

對于脫硫現(xiàn)場不適合建立在線粉碎脫硫條件下的應(yīng)用工況，可采用此工藝將碳酸氫鈉粉碎到目標粒徑( d9020um ，通過罐車運輸?shù)接昧犀F(xiàn)場粉倉再經(jīng)噴粉系統(tǒng)噴到脫硫終端。

該工藝可配套大型粉碎機組提供集中粉磨多點供料，具有機動靈活、輻射面廣、可操作性強等優(yōu)點。